品牌：PlasmaEtch
產(chǎn)地：美國

儀器介紹      
Plasma Cleaner為單一制程處理腔體，使用先進(jìn)之平板式電漿技術(shù)，與整合型
多重電漿源機(jī)構(gòu)所設(shè)計的電漿制程機(jī)臺，適用于各種干式清潔與表面處理制程，以及殘留光阻去除等制程應(yīng)用。在半導(dǎo)體與光電產(chǎn)業(yè)之干式電漿制程中提供高駕動率、低營運(yùn)成本之特性。臺式小型機(jī)，PLC人機(jī)自動控制，簡單易用，適用于實(shí)驗(yàn)室及小批量工業(yè)生產(chǎn)中材料表面清洗、蝕刻、活化等工藝。

提供三種功能配置：
1. 常規(guī)的等離子清洗和等離子刻蝕
2. 反應(yīng)離子刻蝕（RIE）
3. 可轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)（包含可以進(jìn)行各向同性和各向異性的等離子工藝）可拆卸的托盤構(gòu)造。

等離子刻蝕機(jī)技術(shù)參數(shù)：
設(shè)備型號：PE-100
腔體尺寸：長方形腔體，長度305 x深度368 x高度305mm；
腔體材質(zhì)：T-6鋁合金一體成型；
腔體容積：34升；
射頻電源：13.56MHz；0~300W自動調(diào)節(jié)；
工作壓力范圍：1-2000 mT；
氣體流量控制：0-50cc/min帶精密針閥；
皮拉尼真空計： 0-1Torr；