用途：
該X射線晶體分析儀，主要用于研究物質內部微觀結構。如：單晶定向、檢驗缺陷、物質定性、測定點陣參數、測定殘余應力等。
主要參數：
電  源：AC220V  50HZ  30A
功  率：2KW
靶  材：Cu（可選其他靶材）
管電壓：50KV（分檔可調）
管電流：50mA（分檔可調）
穩定度：±1%
保  護：過功率、過電壓、過電流、無水
冷  卻：循環水、制冷水箱
防  護：鉛有機玻璃防護罩
相  機：
a)德拜相機（粉沫相機）大、小兩種
b)勞厄相機（平板相機）
上述兩種相機，用戶可自選配置