整套設備由上下料裝置，傳送裝置，干洗部分紫外光化學清洗艙（UV單元）和濕洗部分（藥液噴淋艙，刷洗，高壓噴淋，超聲波清洗，風刀）綜合組成,清洗流程設計為1藥液噴淋(弱堿，附加DIW自清洗功能)-2藥液刷洗（弱堿或者中性）-3超聲波-4二流體噴淋（高壓）-5兆聲波（頻率率百萬赫茲以上）-6超純水噴淋清洗-7風刀干燥-8紫外單元。設備每個部分能夠單獨控制；1單元前以及2，3單元間必須配備風刀液切單元，防止廢氣泄露以及單元間相互污染