美國Microtrac公司的S3500系列激光粒度分析儀，原理上采用經(jīng)典靜態(tài)光散射技術(shù)和全程米氏理論處理，利用現(xiàn)代模塊式設(shè)計理念，使用獲得專利的三激光光源技術(shù)，配備超大角度雙鏡頭檢測系統(tǒng)，以對數(shù)方式排列151個高靈敏度檢測單元，無需掃描，平行通道實時接受散射光信息，提供準(zhǔn)確可靠的測量信息。多種分散方式可選，干法與濕法測量之間的轉(zhuǎn)換，系統(tǒng)自動識別，方便快捷。S3500系列儀器完全符合ISO 13320-1粒度分析－激光衍射方法的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)及21 CFR PART 11 安全要求，并被榮幸地指定為NIST標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)認(rèn)證儀器。
主要特點
﹡ 專利Tri-Laser激光系統(tǒng), 完全消除了不同波長光源對顆粒散射光分布“連接點”的影響和
多次米氏理論（Mie Theory）數(shù)學(xué)處理的誤差（米氏理論處理與波長有關(guān)）。
﹡ 專利“Bluewave”激光技術(shù)，拓展測量下限至0.01μm。
﹡ 無需掃描，同步接受全量程散射光信號，保證分
析結(jié)果的高重現(xiàn)性及全量程范圍的高分辨率。
﹡ 首家引進(jìn)“非球形”顆粒概念對米氏理論計算的校正因子，內(nèi)置常用分析物質(zhì)光學(xué)數(shù)據(jù)庫，
提高顆粒粒度分布測試的準(zhǔn)確性。
﹡ 系統(tǒng)自動對光，內(nèi)置輔助光源用于檢驗和校正檢測器的靈敏度。
﹡ 多種樣品分散系統(tǒng)可供選擇，各種分散系統(tǒng)之間的轉(zhuǎn)換簡單方便，結(jié)果穩(wěn)定一致。
﹡ 現(xiàn)代模塊式設(shè)計，可根據(jù)實際應(yīng)用需要允許選擇儀器的配置，以滿足將來的任何需要。
﹡ 數(shù)據(jù)處理靈活方便，體積分布，數(shù)量分布和強(qiáng)度分布，微分與累計百分比以及其他綜合報告
形式任意組合，數(shù)據(jù)存儲兼容性強(qiáng)。
﹡ NIST(National Institute of Standards & Technology)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)指定認(rèn)證儀器。
技術(shù)參數(shù)
﹡ 測量范圍:0.02μm-2,800μm; 測量精度:0.6%; 測量時間:10-30 秒; 所需樣品量:0.05-2g;
兼容性:與任何常用有機(jī)溶劑兼容
﹡ 光源: 三束3mW 780nm固體二極管激光器, 電腦控制自動校準(zhǔn); 準(zhǔn)直功能:電腦控制自動對光;
光路:固定光學(xué)平臺,傅利葉光路結(jié)合雙透鏡技術(shù)
﹡ 接受角度:0.02-163°; 檢測器:高靈敏硅光電二極管; 檢測器數(shù)量:151個對數(shù)方式優(yōu)化排列
﹡ 操作靈活:兼容 Windows 98, 2000, NT和XP等操作系統(tǒng); 報告格式:體積,數(shù)量和面積分布,包
括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)以O(shè)DBC形式輸出兼容其他統(tǒng)計分析軟件和文字
處理軟件; 安全性:數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11 安全要求
﹡ 環(huán)境要求:溫度10-35℃; 相對濕度:小于90%; 電源要求:90-240 VAC, 5A, 50/60Hz; 主機(jī)
尺寸:高度33cm, 寬度55.9cm, 深度37.5cm, 重量25Kg
﹡ 標(biāo)準(zhǔn)化:符合ISO 13320-1 激光粒度分析國際標(biāo)準(zhǔn)
﹡ 完整配置:固定光學(xué)平臺, 樣品分散系統(tǒng), 計算機(jī)/打印機(jī), 數(shù)據(jù)處理軟件
藍(lán)波2型(BWDL)):濕法測量范圍：0.01-2,800μm；干法測量范圍：0.25-2,800μm
藍(lán)波1型(BWSL)):濕法測量范圍：0.01-2,000μm；干法測量范圍：0.25-2,000μm
增強(qiáng)型(Enhanced):濕法測量范圍：0.02-2,800μm；干法測量范圍：0.25-2,800μm
擴(kuò)展型(eXtended):濕法測量范圍：0.02-2,000μm；干法測量范圍：0.25-2,000μm
特殊型(speciaL) :濕法測量范圍：0.09-1,500μm；干法測量范圍：0.25-1,500μm
標(biāo)準(zhǔn)型(Standard):濕法測量范圍：0.25-1,500μm；干法測量范圍：0.25-1,500μm
高端型(High) :濕法測量范圍：2.75-2,800μm；干法測量范圍：2.75-2,800μm
基本型(Basic) :濕法測量范圍：0.70-1,000μm；干法測量范圍：0.70-1,000μm
