專利摘要顯示，本發明公開了一種超高真空密封結構及密封方法，超高真空密封結構包括兩個對接的殼體、金屬密封件；殼體包括對接面以及通孔，兩殼體的對接面之間形成一間隙；金屬密封件置于間隙內，其包括兩個相對的側面、以及由其中一個側面貫穿至另一側面的連通孔，兩側面分別朝向兩對接面；側面上突出的設置有兩個以上環繞連通孔設置的密封環，任意兩密封環的其中一個落入另一個密封環內部；每一個側面上至少有兩個密封環和與該側面相對的對接面的距離不相等，側面上至少有一個密封環和與該側面相對的對接面壓緊配合。本發明至少一個密封環形成的密封結構滿足超高真空密封要求即可，使得整個系統的安裝變得簡單方便，易于加工。